等離子清洗機的電源可以按頻率分為中頻電源、射頻電源和微波電源,在等離子處理中各自具有獨特的特點。

1、中頻等離子清洗機

由于中頻電源直接輸出到電極板的電壓較高,其自偏壓也較高,產生的負自偏壓就會引起正離子的功率吸收,從而直接引起電極板的溫度升高。同時由于在這個過程中離子會吸收部分的功率,因此用于電離的電子的功率吸收就相應地減少了,從而造成等離子體密度較低,與離子能量較高的現象,這樣一來在處理過程中,工藝處理過程中的溫度也會升高。

2、射頻等離子清洗機

射頻等離子清洗機與中頻等離子清洗機不同的是,在射頻容性耦合方式的放電過程中,電極板產生的自偏壓受到放電氣壓的影響,但其中自偏壓較小,電子的功率吸收主要來自于與電極板表面的震蕩鞘層相互作用。因此,射頻等離子清洗機的激發頻率越高,電子的功率相對的也會越高,相應的離子轟擊的能量就會降低,所以在工藝處理過程中的溫度就會相對中頻等離子清洗機較低。

3、微波等離子清洗機

而微波等離子清洗機的放電過程中,在這樣的清洗方式下沒有自偏壓,離子濃度高,離子能量低。主要有著兩種方式,即表面波型和電子回旋共振型,前者一般用于商業清洗,是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現放電,其中并沒有離子的加速作用,其電子密度較高,但通常要去放電氣壓高,從而會引起等離子體局域化比較嚴重的情況,不利于縱深清洗方式和多層面的大尺度的清洗處理。此外,微波等離子清洗機也不適合對一些精密的電子元器件進行處理。


注:

自偏壓指的是當腔體電極接上RF功率時,由于電子和離子的運動,會在電極附近形成帶負電的鞘層電壓。這是因為電子的質量遠小于離子,因此到達電極的電子數量多于離子,導致電極附近形成自偏壓。